În domenii precum fabricarea semiconductorilor și instrumentele de măsurare de precizie, precizia platformelor de precizie din granit determină direct calitatea operațională a echipamentelor. Pentru a asigura că precizia platformei respectă standardele, trebuie depuse eforturi din două puncte de vedere: detectarea indicatorilor cheie și respectarea normelor standard.
Detectarea indicatorului central: Control multidimensional al preciziei
Detectarea planeității: Determinarea „planității” planului de referință
Planeitatea este indicatorul principal al platformelor de precizie din granit și este de obicei măsurată cu interferometre laser sau nivele electronice. Interferometrul laser poate măsura cu precizie ondulațiile minuscule de pe suprafața platformei prin emiterea unui fascicul laser și utilizarea principiului interferenței luminoase, cu o precizie care atinge nivelul submicronic. Nivela electronică măsoară prin mișcări repetate și trasează o hartă de contur tridimensională a suprafeței platformei pentru a detecta dacă există proeminențe sau depresiuni locale. De exemplu, platformele de granit utilizate în mașinile de fotolitografie cu semiconductori trebuie să aibă o planeitate de ±0,5 μm/m, ceea ce înseamnă că diferența de înălțime pe o lungime de 1 metru nu trebuie să depășească jumătate de micrometru. Acest standard strict poate fi asigurat doar prin intermediul unor echipamente de detectare de înaltă precizie.
2. Detectarea rectilinietății: Asigurați „rectilinietatea” mișcării liniare
Pentru platformele care transportă piese mobile de precizie, rectilinietatea este de o importanță vitală. Metodele comune de detectare sunt metoda cu fir sau colimatorul laser. Metoda cu fir implică suspendarea unor fire de oțel de înaltă precizie și compararea spațiului dintre suprafața platformei și firele de oțel pentru a determina rectilinietatea. Colimatorul laser utilizează caracteristicile de propagare liniară ale laserului pentru a detecta eroarea liniară a suprafeței de instalare a șinei de ghidare a platformei. Dacă rectilinietatea nu îndeplinește standardul, echipamentul se va deplasa în timpul mișcării, afectând precizia procesării sau a măsurării.
3. Detectarea rugozității suprafeței: Asigurarea „fineței” contactului
Rugozitatea suprafeței platformei afectează potrivirea componentelor la instalare. În general, pentru detectare se utilizează un rugometru cu stylus sau un microscop optic. Instrumentul de tip stylus înregistrează modificările de înălțime ale profilului microscopic prin contactul cu suprafața platformei cu o sondă fină. Microscoapele optice pot observa direct textura suprafeței. În aplicațiile de înaltă precizie, rugozitatea suprafeței platformelor de granit trebuie controlată la Ra≤0,05 μm, ceea ce este echivalent cu un efect de oglindă, asigurând că componentele de precizie se potrivesc strâns în timpul instalării și evitând vibrațiile sau deplasările cauzate de goluri.
Standardele de precizie respectă: normele internaționale și controlul intern al întreprinderii
În prezent, la nivel internațional, standardele ISO 25178 și GB/T 24632 sunt utilizate în mod obișnuit ca bază pentru determinarea preciziei platformelor de granit, existând clasificări clare pentru indicatori precum planeitatea și liniaritatea. În plus, întreprinderile producătoare de top stabilesc adesea standarde de control intern mai stricte. De exemplu, cerința de planeitate pentru platforma de granit a mașinii de fotolitografie este cu 30% mai mare decât standardul internațional. La efectuarea testelor, datele măsurate trebuie comparate cu standardele corespunzătoare. Doar platformele care respectă pe deplin standardele pot asigura performanțe stabile în echipamentele de precizie.
Inspectarea preciziei platformelor de precizie din granit este un proiect sistematic. Numai prin testarea strictă a indicatorilor de bază, cum ar fi planeitatea, liniaritatea și rugozitatea suprafeței, și prin respectarea standardelor internaționale și de întreprindere, se poate garanta precizia și fiabilitatea ridicată a platformei, punând o bază solidă pentru domenii de producție de înaltă performanță, cum ar fi semiconductorii și instrumentele de precizie.
Data publicării: 21 mai 2025