În domeniul fabricației de ultra-precizie, șlefuirea și lustruirea plăcilor de granit joacă un rol decisiv în determinarea planeității suprafeței, luciului și preciziei generale. Deși granitul este unul dintre cele mai dure și stabile materiale naturale, atingerea preciziei micrometrice necesare se bazează în continuare pe selecția atentă și utilizarea corectă a lichidelor și agenților de lustruire.
În timpul procesului de șlefuire, aceste lichide și agenți nu numai că influențează ratele de îndepărtare a materialului, dar afectează și finisajul suprafeței și stabilitatea pe termen lung a platformei de granit. Prin urmare, selectarea tipului și a formulei adecvate este esențială pentru obținerea unor rezultate optime și prelungirea duratei de viață a componentei de granit de precizie.
În aplicațiile profesionale, lichidele și agenții utilizați pentru șlefuirea platformei de granit sunt în general împărțiți în patru categorii funcționale: agenți de curățare, abrazivi, agenți de lustruire și agenți de etanșare.
Agenții de curățare sunt utilizați în principal pentru a îndepărta contaminanții și reziduurile de pe suprafața granitului - cum ar fi uleiul, oxidul sau praful fin - înainte și după șlefuire. Soluțiile de curățare obișnuite includ agenți de curățare cu pH neutru, agenți ușor acizi sau detergenți alcalini. Atunci când utilizează agenți de curățare chimici, operatorii trebuie să controleze concentrația și timpul de expunere pentru a preveni corodarea chimică sau matizarea suprafeței granitului.
Abrazivii servesc drept mediu cheie pentru îndepărtarea materialului. Granulele abrazive taie și nivelează suprafața granitului pentru a elimina microdefectele, zgârieturile și neuniformitățile. Cele mai utilizate materiale abrazive sunt alumina, carbura de siliciu și compușii de silice de înaltă puritate. Selecția tipului de abraziv, a dimensiunii particulelor și a concentrației depinde de duritatea granitului și de precizia necesară a suprafeței. Pentru finisarea fină, se utilizează abrazivi cu dimensiuni ale particulelor submicronice pentru a obține suprafețe ultra-plane cu o toleranță de planeitate de 1-2 µm.
Agenții de lustruire se aplică după șlefuire pentru a îmbunătăți netezimea și luciul suprafeței. În această etapă, scopul nu este îndepărtarea materialului, ci rafinarea texturii micro-suprafeței. Formulele avansate pe bază de poliuretan, compuși acrilici și oxid de crom sunt adesea utilizate pentru a produce un finisaj oglindă. Echilibrul corect dintre presiune, viteză și compoziția agentului este crucial pentru obținerea unei luminozități uniforme fără a compromite precizia.
În cele din urmă, se aplică materiale de etanșare ca strat protector odată ce lustruirea este completă. Granitul în sine este foarte rezistent la coroziune și variații de temperatură, dar aplicarea unui material de etanșare adecvat îmbunătățește rezistența la apă, ulei și praf, menținând în același timp stabilitatea optică și mecanică a platformei. Producătorii profesioniști folosesc adesea materiale de etanșare pe bază de polimeri sau ceară pentru a asigura o protecție pe termen lung, în special în medii cu umiditate ridicată sau de laborator.
La efectuarea șlefuirii și lustruirii granitului, operatorii trebuie să asigure un mediu controlat la temperatură și umiditate - de obicei 20 ± 1 °C - pentru a preveni deformarea termică. De asemenea, se recomandă utilizarea apei purificate sau a lichidelor neutre de lustruire pentru a evita introducerea impurităților. Întreținerea regulată, inclusiv curățarea și inspecția plăcii de suprafață, ajută la păstrarea preciziei acesteia și la prelungirea duratei sale de viață.
În concluzie, obținerea unui finisaj impecabil pe o placă de granit de precizie depinde de selecția precisă și utilizarea profesională a lichidelor și agenților de lustruire. Fiecare etapă - de la curățare la sigilare - necesită expertiză, atenție la detalii și control strict al parametrilor procesului. Atunci când este realizată corect, rezultatul este o platformă de granit cu o planeitate, netezime și durabilitate excepționale - asigurând performanțe fiabile pentru măsurători de precizie și aplicații de fabricație de înaltă performanță.
Data publicării: 13 noiembrie 2025